溅射靶材Shenzhen Sunrise Metal Industry Co.,Ltd深圳市东升稀有金属有限公司
溅射靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
靶材材质涉及金属,非金属,陶瓷,及他们的复合物,化合物。因材料的不同特性，他们被用于制备成溅射靶材通过真空溅射在不同的机体上成为连续膜层，为原本的机体材料带来新的功能特性。深圳市东升稀有金属有限公司司作为国内最早从事多种材料研发与生产的单位，依托自身雄厚的技术和设备优势，目前已经发展成为镀膜靶材的专业制造商。
我公司拥有大型冷/热等静压机、真空感应熔炼炉、大型冷/热轧机等制造设备及规模化的机加工车间，可为玻璃、机械加工、平面显示、汽车、能源、家电、半导体、磁数据存储、光数据存储等行业提供多种高品质的纯金属及合金靶材。我公司生产的靶材产品除供应国内客户外，已远销至美国、德国、法国、日本、新加坡、韩国、台湾等国家和地区，在ISO9000/14000/18000三体系的保障下，产品质量深受用户认可。
在机械加工领域，我们的产品已经成为全球前三大硬质涂层靶材供应商之一；在磁记录领域，深圳市东升稀有金属有限公司已经成为日立存储在中国大陆唯一一家靶材合格供应商；在节能玻璃领域，深圳市东升稀有金属有限公司提供的NiCr、SiAl等靶材已经占据大陆地区80%以上的市场分额。
靶材产品按照制造工艺分类，可以分为粉末冶金靶材，熔炼铸造靶材，等离子喷涂靶材。
粉末冶金靶材：
特点：材质灵活，接近材料的理论密度，较高的溅射率，较长的使用寿命，高均匀性，低材料缺陷。主要产品 TiAl-X CrAl-X Cr WC W Mo WTi AZO 等。
熔炼合金靶材：
特点：密度高，晶粒细小均匀，较高的溅射率，较长的使用寿命，高均匀性，低材料缺陷，较高的材料强度。典型产品 NiCr NiV Ti Nb FeCo-X TiAl等。
等离子喷涂靶材：
特点：相对密度高，较长的使用寿命，高均匀性，低材料缺陷。典型产品 SiAl Si Cr 等。
典型尺寸 D133*2879、D133*3191、D133*3234、D133*3855
规格尺寸：深圳市东升稀有金属有限公司可根据客户的图纸要求及使用要求来加工靶材。
产品与服务
我们非常愿意的提供任何专业的服务，包括产品设计、生产，加工；材料的选型；靶材的返修、绑定。 Shenzhen Sunrise Metal Industry Co.,Ltd深圳市东升稀有金属有限公司
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